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2024-10-15 00:01

参展企业：湖南众源科技有限公司

来源：世展网分类：半导体行业资讯 2024-10-17 13:47 阅读：1161

由中国半导体行业协会主办，北京赛迪出版传媒有限公司承办的中国国际半导体博览会（IC China 2024）将于2024年11月18日-11月20日在国家会议中心举行。以“集合全行业资源·成就大产业对接”为主题，IC CHINA 2024聚焦半导体产业链、供应链及超大规模应用市场，全景展现半导体产业的发展趋势和技术创新，汇聚全球行业资源，促进全行业合作交流，打造全球IC行业的顶级权威盛会。湖南众源科技有限公司将亮相IC China 2024。

企业介绍

湖南众源科技有限公司团队创建于2003年，坐落于五岳名山之一南岳衡山----衡阳市国家级高新区，是一家从事真空等离子体放电电源研发、制造和销售的高新技术企业。公司注册于2012年，实缴资金2150万元，拥有15000平方自建厂房和长沙1000平方自购研发基地，公司核心团队与国防科大和中南大学共同开发等离子体电源及半导体PVD真空应用领域合作15余年;2022年5月与湖南工程学院及南华大学签订校企合作，建立共同实验室，进一步加强理论基础，结合实际经验。公司在真空镀膜电源领域以外，还从事特种大功率电源研发和制造。

产品介绍

直流溅射电源

应用：

电源采用DSP+FPGA数字控制技术，LCD屏显示和存储电源及阴极工作状态随时查询，时时动态追踪。

特点：

适用于镀制各种纯金属材料....输出精度高，工艺重复性好，膜层一致性好。智能电弧管理系统提高了抑制打弧及重启速度。恒流/恒功率模式切换，恒功率模式更能保证镀膜工艺的重复性。

AP大气等离子处理机-旋转型

应用:

电子行业的手机壳印刷、涂覆、点胶等前处理，手机屏幕的表面处理；国防工业的航空航天；连接器表面清洗；丝网印刷；转移印刷前处理；改善达因值。

特点：

可选配多种类型喷嘴，使用于不同场合，满足各种不同产品和处理环境；具有RS485/232数字通讯口和模拟量控制口，满足客户多元化需求;备尺寸小巧，方便携带和移动，节省客户使用空间；可在线式安装于客户设备产线中，减少客户投入成本；使用寿命长，保养维修成本低，便于客户成本控制。 undefined

双极脉冲溅射电源

应用：

金属合金、石墨、硅铝、ITO、AZO等靶材镀制金属膜、碳化膜和氧化物、氮化物膜层。

特点：

主回路拓扑采用PFC+全桥构架结合DSP+FPGA数字控制技术。内置灭弧时间设置10us-100us 适应不同的工艺及靶材打弧显示计数。输出频率10-100KHZ,间歇时间 1-10us。恒功率、恒电流满足任意工艺要求。主动抑弧，改善靶材表面电荷积累现象，减小溅射表面打火次数，提高膜层质量。脉冲/直流两个模式输出，满足不同工艺要求。配置面板操作和显示；远程PLC控制通讯接口：模拟量、RS485、PROFIBUS、EtherCAT。 undefined

中频溅射电源

功率等级:20KW-120KW

应用：

双阴极溅金属或半导体材料，特别适合于反应磁控溅射、氧化物、氮化物、碳化物膜层，增加离化率。

特点：

主回路拓扑采用PFC+SiC组成全桥架构，结合DSP+FPGA数字控制技术；恒功率 /恒流模式切换恒功率模式更能保证镀膜工艺的重复性；内置Arc 25μs-500μs设置，适应不同的工艺及靶材，打弧累计计数查询；同时检测 V-Arc & I-Arc 快速切断输出,同时启动内置专利技术消除残余电弧能量，避免阴极及基片打弧，确保高精膜层；超宽的负载匹配能力，定制输出电压50V-1KV,电流100mA-300A;频率1-200KHZ；一流的可靠设计，目前市场上已有3万台不同等级功率在Low-E镀膜玻璃及PVD和PECVD镀膜设备上24小时稳定运行；主动操作面板，通讯配置模量/RS485/Profibus/EtherCAT及英国GENCOA Speedflo气体控制器专用接口；物理尺寸及电气协议：兼容德国或美国知名品牌电源通讯协议，实现0成本替换。END

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企业联系

联系人：黄学敏

电话：588

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苏明泽 /936

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