国产化“高能离子源与离子束整机装备”〡博顿光电携多款新品亮相CIOE 2022

离子束加工技术是微纳工业制造与工业加工的基础性技术，可广泛应用于精密光学、光通信、OLED、半导体等战略性产业，同时也是制约产业发展的关键卡脖子技术。博顿光电“离子束微纳加工核心部件与整机装备”是依托全国产化的高能离子源技术，开发不同工艺应用方向的特种离子源和离子束微纳加工整机系统。

产品特点：

• 低散射值和缺陷密度
• 标准基片尺寸可达230mm
• 工件架均匀度在±0.5%以内
• 可实现无修正板沉积，缺陷低
• 适用大尺寸产品镀膜工艺
• 镀膜材料多种多样

工艺应用:

激光减反膜、激光高反膜、窄带滤光片、分光滤光片、截止滤光片、介质反射膜、金属/介质反射镜

应用领域:

激光、光通讯、医疗、显微镜、传感器、MEMS等

博顿射频离子源产品采用全自主开发与制造的路线，完全区别于业内常见的部件外购+拼装集成的技术路线，在多方面具备明显优势：

• 全新栅网，自主研发，突破寿命限制，解决刻蚀问题
• 高可靠真空馈入部件，业内首创，保稳护航
• 电源与控制器全面升级，更稳定，性能更优异
• 多场景多领域工艺验证，对膜层无污染，指标优异

RISE系列矩形射频离子源，突破超大面积均匀处理，应用于中大型基材中的离子束清洗、离子束刻蚀、离子束辅助沉积，可应用于高端光学、光通信、强激光、半导体、军工、航天、生化、医疗等多行业领域。

产品特点：

• ＞200小时：无灯丝中和、长时间连续工作、维护简易
• 6x30cm，6x90cm：矩形、大面积基板处理能力
• 离子能量束流大、高准直：射频驱动、有栅、稳定高效
• 适应多种工作气体：支持氧、氮、氩（其他惰性气体）
• 工艺重复性高：特殊水冷、等离子体均匀性高
• 精确与灵活控制：全自主研发的电源驱动与控制系统

博顿光电自主研发的特种直流离子源，可配备15mm/30mm孔径的多层栅网，可发射汇聚型离子束，离子能量范围50-1500eV，离子束流范围30-300mA，使用具有专利技术的中空阴极结构和耗材，发热小，连续使用时间可达100小时以上，支持可移动结构，可用于离子束清洗、离子束辅助、离子束刻蚀和离子束修形及抛光。

一种全自主研发的新型高端离子源，使用具有专利技术的中空阴极结构与耗材，突破了传统灯丝霍尔离子源只能工作10小时的限制，连续工作时间大大提升到100小时以上，发热小、适应多种气体环境、无污染，可极大提升膜层的稳定性、附着力、致密度。

博顿光电始终专注于离子束微纳加工核心部件、高端装备与工艺解决方案提供，2019年认定为国家高新技术企业。

博顿光电全自主开发的离子源产品系列：中空阴极霍尔离子源、射频离子源、IBF专用离子源、大型矩形特种离子源等，已实现批量销售，在国内100余家客户现场得到了充分验证，也收获了众多好评，应用领域覆盖精密光学、光通信、5G、泛半导体、军工航天等领域实现多领域。

离子源及离子束装备是典型的“卡脖子”技术与产品，广泛应用于精密光学、LED、半导体与集成电路、航空航天、国防军工、光伏新能源等多个领域，是纳米薄膜沉积、微纳微纳、超高精度表面处理等工艺制程必备的关键装置和基础设备，但由于以离子源为代表的高端核心部件长期受限于国外，导致在高端装备和工艺应用方面受制于人。

博顿光电采用核心部件和子系统全自主研发的技术路线，通过软件、硬件与工艺的一体化融合及智能化配置，实现性能优异和功能全面的离子束微纳加工整机装备。以高端离子源核心技术及离子束装备的国产化为突破点，联合国内外优势企业进行产业化应用示范，打破国外技术垄断，填补国内技术空白，有力支撑我国精密光学、光通信、OLED、半导体等战略性产业的创新和发展升级。

2021年博顿获批承担了“广东省离子束装备工程技术研究中心”的建设，这是国内第一个省级离子束装备工程技术研究中心，公司持续投入和配备了CNC加工中心、特种电源研发测试平台、电控研发平台、精密光学检测平台等基础平台，具有独立完成离子源核心部件、离子束装备、控制系统及工艺技术的研发能力，核心技术涉及光学、等离子体物理学、电子电控、特种电源、智能控制、纳米薄膜及离子刻蚀等专业领域，产品的开发和产业化有很高的技术壁垒。

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